La limite de la Loi de Moore

Guy Kindermans Rédacteur de Data News

La lithographie quantique ne pourrait pas tenir ses promesses …

La lithographie quantique ne pourrait pas tenir ses promesses de méthodes de production repoussant les frontières notamment dans la fabrication des puces.

La surenchère consistant à prévoir au moyen de la ‘lumière’ toujours davantage de transistors (donc toujours plus compacts) sur divers matériaux des puces en est arrivée à l’utilisation d’une lumière à longueur d’onde sans cesse plus courte (et de systèmes lenticulaires et d’éclairage correspondants). Les fabricants de systèmes d’éclairage (comme le néerlandais ASML) semblaient assez bien capables de fournir de l’équipement devant permettre aux constructeurs de puces, tels Intel, de continuer à respecter la fameuse Loi de Moore (qui prévoit un doublement du nombre de transistors sur une surface donnée tous les 18 mois). Mais une longueur d’onde plus courte signifie aussi une lumière plus forte qui est absorbée plus facilement par le matériau des systèmes lenticulaires.

En 2000, l’on décrivait comment la lithographie quantique arriverait à déjouer les limites grâce au phénomène de l’entrelacement (‘entanglement’) des photons (comprenez des faisceaux de plusieurs photons). Restait à savoir si tous ces photos aboutiraient au même endroit ou s’ils s’éparpilleraient.

Des chercheurs universitaires suédois et japonais ont récemment découvert que les photons s’éparpillent. Il en résulte que dans le cas d’un éclairage utilisable, cela conduirait à des durées d’exposition inacceptables pour des applications en production commerciale. Ce qui élimine assurément la lithographie quantique en tant que solution viable destinée à perpétuer le Loi de Moore.

L’article intitulé ‘On the efficiency of quantum lithography’ – pas vraiment une lecture facile pour les vacances – se trouve ici. Un autre article quelque peu plus abordable sur le sujet (des commentaires sur le premier article) se trouve sur un blog du site ‘Technology review’ du MIT.

http://arxiv.org/PS_cache/arxiv/pdf/1006/1006.2250v1.pdf

http://www.technologyreview.com/blog/arxiv/25336/

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