Le premier processeur ‘Westermere’ à 32nm d’Intel

Intel a procédé à la démonstration de son premier processeur ‘Westermere’ à 32 nanomètres tant dans un ordinateur de bureau que dans un système mobile. Son président et CEO, Paul Otellini, a annoncé à cette occasion que l’entreprise allait consentir les plus importants investissements de son histoire dans ses usines de production américaines.

Intel a procédé à la démonstration de son premier processeur ‘Westermere’ à 32 nanomètres tant dans un ordinateur de bureau que dans un système mobile. Son président et CEO, Paul Otellini, a annoncé à cette occasion que l’entreprise allait consentir les plus importants investissements de son histoire dans ses usines de production américaines.

Dans le système Intel d’annonces alternées en architecture/technologie, place en 2009 à la nouvelle technologie de production à 32nm. A San Francisco, Intel a procédé à la démonstration de ses premiers produits ‘Westermere’: des processeurs à microarchitecture Nehalem (annoncée en 2008) à 32nm. Les préliminaires à leur introduction se déroulent parfaitement (le ‘ramp up’ le plus rapide de l’histoire, pour reprendre l’expression d’Intel), de sorte que la production devrait débuter à la fin de l’année.

Pour le desktop, Intel prévoit une variante ‘6 core/12 threads’ haut de gamme et une version normale ‘2core/4threads/integrated graphics’, en plus d’un modèle pour ordinateurs mobiles. Pour les serveurs, il y aura trois versions (Entry, Efficient performance et Expandable Scalable). Les puces se déclineront tant en une variante CPU optimisée qu’en une version System-on-Chip (SoC), en combinaison avec des jeux de puces adaptés. En raison de la taille inférieure des transistors, les processeurs sont également dotés de fonctions et instructions complémentaires, à l’instar des 7 instructions pour un cryptage/décryptage plus rapide (e.a. AES).

Paul Otellini, président et CEO d’Intel, en a profité pour annoncer un investissement de 7 milliards de dollars en vue de la production des puces à 32nm dans les usines américaines (Oregon, Nouveau Mexique et Arizona). Depuis 2002, Intel aura ainsi investi 50 milliards de dollars aux Etats-Unis dans la recherche et le développement, ainsi que dans la production. Dans le processus de production à 32nm, Intel sera aussi la première à exploiter la lithographie en immersion pour les couches critiques. La lithographie en immersion recourt à un liquide entre la source lumineuse et le disque de silicium pour une mise au point encore plus nette.