Nouveaux jalons nanométriques

04/04/07 à 00:00 - Mise à jour à 03/04/07 à 23:59

Source: Datanews

L'entreprise lithographique néerlandaise pour semi-conducteurs ASML déclare avoir réussi à produire des pistes distantes de 37 nm, voire de 32 nm, alors que la limite était jusqu'à présent de 40 nm.

Avec son tout nouveau scanner par immersion Twinscan XT:1900i, ASML est capable d'imprimer des pistes distantes de 37 nanomètres. L'entreprise néerlandaise l'a annoncé, il y a environ un mois, lors de la conférence technologique SPIE organisée à San José aux Etats-Unis. Jusqu'à présent, le seuil pour la lithographie par immersion était de 40 nanomètres (y compris avec le 1900i). Dans la deuxième moitié de 2007, le scanner sera livré à une dizaine de clients.Dans un communiqué de presse, Martin van den Brink, directeur marketing et technologie d'ASML, a évoqué une deuxième prouesse réalisée par son entreprise. Celle-ci est en effet pour la première fois parvenue à imprimer des pistes de 32 nm en recourant à la lithographie EUV. Les seules machines EUV existant actuellement se trouvent chez Imec à Louvain et chez Albany Nanotech à Albany aux Etats-Unis. Selon ASML, les systèmes EUV constituent la solution la plus économique dans ce domaine. L'entreprise annonce que trois de ces systèmes EUV en préproduction sont en commande et devraient être prêts d'ici 2009.En faisant cette annonce des 37 nm lors de SPIE, ASML a insisté aussi sur le fait qu'elle menait ainsi non seulement la danse, mais qu'elle avait aussi largement distancé la concurrence d'Extrême-Orient dans cette course à la technologie, en témoigne l'analyse effectuée par le magazine spécialisé néerlandais Bits & Chips. "Ce qui en dit long à ce propos, c'est la récente annonce faite par Nikon de développer du 32 nm double pattering & double exposure avec la technologie de CEA-Leti. Une entreprise lithographique japonaise qui fait pour le moment encore appel à un centre de recherches français qui n'est pas précisément à l'avant-garde en matière de technologie de processus CI? De quoi faire saliver ASML. (Le 'double patterning' figurait l'an dernier déjà sur la feuille de route ITRS, NDLR)." Aujourd'hui, ASML a par ailleurs annoncé qu'elle ouvrait un Center of Excellence à Taïwan. Question d'en imposer encore davantage à la concurrence...

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